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真空涂層注意事項
編輯 :

佳達

時間 : 2020-03-08 12:59 瀏覽量 : 24

 基礎材料

 PVD涂層是高真空下的過程。不可以大量氣體逸出的材料無法鍍膜,因為處理室已被污染。

 基材表面粗糙度

 表面粗糙度越小,劃痕測試的臨界載荷值越高,并且涂層損壞(碎屑等)的可能性越小。通常,建議將算術平均粗糙度Ra設為0.8μm以下。特別是為了防止粘附,鏡面拋光是有效的。但是,對于塑料,橡膠和壓鑄模,磨粒和噴砂是改善脫模性的有效手段。

 注意,真空納米涂層反映了涂層表面上的底層表面形態。沒有像電鍍那樣的流平效果。通常,較大的切割痕跡不適合作為基材。

 基材硬度

 增加基材表面的硬度對于提高涂膜的耐久性(與氮化等的組合處理)有效。通常,建議基材硬度為50HRC或更高。

 對于輕載應用,例如導帶器,鋁合金基材和化學鍍鎳,也可以使用。

 基材表面的清潔度

 為了獲得與高質量納米涂層的牢固粘合,沉積前的表面必須鍍件清潔。對于金屬,有必要創建一個沒有氧化物或污染物層的新表面。以下是每個過程中要注意的要點。

1)預洗——無灼傷(氧化物層),清潔殘留物,干斑,異物附著,毛刺等。

2)預熱,烘烤——不要超過熱處理回火溫度??紤]基材的熱膨脹系數和熱容量。

3)真空涂層——保持和旋轉產品的方法很重要,并且在所需表面上形成具有適合特性的膜層。

4)冷卻出爐——完成以上流程,待溫度冷卻達到常溫出爐。

5)包裝出貨。


膜系分類主成分耐磨耗性潤滑特性耐凝性能耐高溫
CrCrxNy?--
?-?
Zr?---
Ti系
氮化鈦?---
鈦鋁?--
氮化硼?--
DLC系交流電
Me-C:H?-

具體要求可根據客戶產品要求定制真空涂層工藝。



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