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佳達納米涂層 > 解決方案 > 真空離子鍍裝飾膜均勻性的影響因素
真空離子鍍裝飾膜均勻性的影響因素
編輯 :

佳達

時間 : 2020-04-08 08:30 瀏覽量 : 15

 真空離子鍍裝飾膜均勻性的影響因素﹑對策及等離子體鞘層效應探討

 膜層的均勻性主要包括成分均勻、組織結構均勻和膜厚均勻。離子鍍膜均勻性的工藝條件是沉積在工件單位面積上的沉積粒子的成分(物種和比例)、能量(包括入射角和基體溫度)和數量相同。真空鍍膜機結構和工藝條件是通過影響鍍室內等離子體與布氣的不均勻性影響離子鍍膜的不均勻性,再加上工件的裝掛不合理及裝夾具與工件或工件間互相遮擋,最終導致被鍍工件各部位單位面積上沉積量不均等而產生鍍膜的不均勻。

 要保證均勻性﹐沉積條件應考慮以下幾方面因素:

 一、鍍膜空間等離子體要均勻﹔

 二、工件運動對均勻性的補償﹔

 三、避免遮擋﹔

 四、空間電場和磁場對等離子體均勻性影響﹔

 五、反濺射率與膜生長應力的影響﹔

 六、反應氣體布氣要均勻﹔

 七、等離子體鞘層的影響等。

 等離子體鞘層效應與工件的幾何形狀相關,不規則的幾何形狀引起鞘層“畸変”,因而改變了荷電粒子對相應表面的入射角和沉積量,這必然影響沉積的不均勻性﹕

?、傩】缀驼p的鞘產生屏蔽效應﹔

?、诿た變鹊牡入x子體鞘層邊界相當于發散透鏡的作用。離子鍍這種特殊效應﹐有待技朮人員的進一步研究。

?、坌ㄐ稳锌谔?,等離子鞘隨著楔形邊沿彎曲,鞘層朝刃尖方向收窄,鞘彎曲導致離子從較大的范圍被吸引向刃尖,離子沉積量增加;等離子體鞘厚度不均勻,讓鞘邊界變形,引起離子入射角度連續変化,入射角沿著刃尖(夾角)對稱的機會越來越小﹔

?、芏S直角平面鞘層在棱角處產生離子聚集效應﹔

?、莅脊战歉浇蕦觿t相反,產生離子發散效應﹔


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