PVD涂層

　PVD方法包括真空蒸鍍，濺射和離子鍍。陰極電弧式離子鍍設備處于PVD的最前沿。HCD中空陰極離子電鍍系統在切削工具領域擁有良好的往績，可滿足各種客戶需求。

　陰極電弧離子鍍裝置的特點

　低溫處理

　涂層在200℃~500℃的低溫下進行。結果，消除了由于熱引起的材料劣化和變形。低溫回火鋼和要求尺寸精度的應用也廣受好評。

　附著力強

　因為施加了較大的負載電壓，所以離子與工件的碰撞能量增加，并且對基材的擴散作用增加。因此，鍍膜的附著力強于其他PVD方法。

　均勻涂層

　由于在各個方向上都安裝了大量的等離子源（蒸發器），因此可以在形狀復雜的工件上進行均勻的涂覆。

　此外，該鍍膜設備是可以處理大型零件和長加工的材料。

　復合膜和多層膜

　TiAlN、TiN/CrN、TiN等。