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物理氣相沉積工藝制出Cu-納米AlN復合涂層的耐腐蝕性
編輯 :

佳達

時間 : 2020-08-17 08:30 瀏覽量 : 15

 銅具有良好的耐蝕性能,鍍銅作為一種功能性及耐蝕性表面處理工藝已廣泛應用于金屬制品領域。但是銅在長期使用和暴露在強腐蝕性介質中時會發生各種腐蝕,其中電化學腐蝕是最普遍、最常見的腐蝕,銅鍍層與鋼鐵形成Cu-Fe腐蝕原電池,銅作為陽極而被腐蝕。因而限制了銅的進一步應用,因此對表面鍍銅進行改進成為近年來研究的熱門話題。氮化鋁(AIN)具有高溫化學穩定性和強度較高的優點,同時耐腐蝕性能。如能采用較為成熟的復合電鍍工藝,制備出AlN和Cu復合鍍層,這種綜合了二者優良性能的復合鍍層,可以廣泛應用到材料的表面處理中(如銅換熱器),可以極大的提高生產效率,降低生產成本。

 Cu和AlN兩種物質的耐蝕性能都優于鋼基體,所以使鍍層具有較高的耐蝕性能。由于復合鍍層的AlN顆粒粒徑為納米級,而且經過表面改性處理,有效的克服了納米顆粒的團聚現象,在基體表面共沉積形成的鍍層孔隙較低,嚴密的包覆在基體外,所以能有效地保護基體,所以腐蝕后失重很小,腐蝕速率也大大降低。


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