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什么是離子鍍以及它的特點
編輯 :

佳達

時間 : 2020-03-08 14:37 瀏覽量 : 22

 什么是離子鍍

 離子鍍是1950年代在美國國家航空航天局開發的一項技術,是空間開發技術的一部分,并已作為一種提高切削工具和模具耐用性的技術而在全球范圍內應用。

 在這項技術中,金屬在真空中利用熱能或等離子體的能量蒸發,與反應氣體結合形成陶瓷,然后照射到工件上。與傳統的濕式電鍍相比,具有出色的附著力和耐磨性。

 這是一種PVD(物理氣相沉積),我們使用電弧離子鍍和磁控濺射技術。

 離子鍍的特點

 1.優異的耐久性

 通過與反應性氣體結合,可以形成硬質陶瓷涂層,因此耐磨性比濕式電鍍高得多,具有延長產品壽命的作用。

 2.高附著力

 沉積的金屬原子通過放電被電離,在等離子體中以高動能加速,并與工件碰撞,從而形成具有高附著力的薄膜。

 3.人類友好的金屬

 我們的離子鍍膜主要由鈦制成,沒有金屬過敏。鈦具有出色的生物相容性,并且沒有金屬過敏,因此可用于眼鏡架,人體各個部位的骨骼修復,人造牙(植入物)的螺釘以及外科手術工具。

 電弧離子鍍原理

 通過在真空中蒸發待涂覆的成膜金屬并將通過電弧放電離子化(電離)的正電荷成膜金屬吸引到施加有負電荷的工件上,可以獲得具有良好粘附性的硬質陶瓷。這是制造薄膜的技術。沉積金屬主要是鈦,并且還有其他金屬,例如鉻,銅和鋁。當沉積的金屬是鈦時,通過注入作為反應性氣體的N 2(氮)或C 2 H 2(乙炔)與鈦離子結合,形成TiN(氮化鈦)和TiCN(碳氮化鈦)。形成陶瓷涂層,并制成諸如金色,棕色,灰色和黑色的顏色。

 濺射原理

 注入惰性氣體(例如氬氣),該惰性氣體在真空中不與沉積的金屬發生反應,并在工件和靶材(板狀沉積的金屬)之間施加高壓,以產生等離子體(輝光放電)。 。通過輝光放電離子化的帶正電的氬離子與高速碰撞有負電荷的靶碰撞。這是一種通過吸引(濺射)因碰撞而被擊中的沉積金屬到施加了負電荷的工件上,從而形成具有良好附著力的硬質陶瓷薄膜的技術。沉積金屬主要是鈦,并且還有其他金屬,例如鉻,銅和鋁。當沉積的金屬是鈦時,通過注入作為反應性氣體的N 2(氮)或C 2 H 2(乙炔)與鈦離子結合,形成TiN(氮化鈦)和TiCN(碳氮化鈦)。形成陶瓷涂層,并制成諸如金色,棕色,灰色和黑色的顏色。

 磁控濺射技術

 我們使用不平衡磁控濺射。在普通的磁控濺射中,將磁鐵安裝在靶材的后面,磁場在靶材的前面生成密集的等離子體區域,從而增加了與工件碰撞的速度。在磁控濺射中,使外磁體強于內磁體,并且靶上的磁場強度朝向工件擴展??梢栽黾痈街?。

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