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佳達納米涂層 > 解決方案 > 高精度控制磁控濺射和平膜形成的發展
高精度控制磁控濺射和平膜形成的發展
編輯 :

佳達

時間 : 2020-04-04 19:27 瀏覽量 : 14

 透明導電膜用作平板顯示器和觸摸屏的透明電極膜,而氧化銦錫(ITO)等氧化物材料用作其材料。作為透明導電膜的要求,要求減小電阻率和不均勻性以增加顯示器的尺寸和清晰度并防止多層膜的電極之間的短路故障。

ITO涂層工藝

 磁控濺射被用作這種涂層制造方法的主體,但是,當使用氧化物進行濺射時,由于高能氧負離子而導致膜質量下降是一個問題。通過濺射在靶表面上產生的氧負離子被靶前表面上的高壓所加速,并被認為會與沉積在基板上的膜表面碰撞并對其造成損害。因此,重要的是通過低壓放電減少負離子能量以進行高質量的膜形成。在最近的磁控濺射中,脈沖放電主要用于抑制由于靶附近積累的正離子引起的電弧放電。但是,施加到脈沖的高負偏壓會釋放出高能氧負離子,這可能會影響涂層質量。

 目的和概述在本研究中,我們旨在制造高度平坦的ITO涂層,并使用疊加VHF的方法來降低脈沖電壓。通過施加高頻功率,由于與直流放電的放電機理不同,可以抑制負偏壓。據報道,可以通過在直流放電上疊加RF高頻功率來抑制負偏壓,但是通過疊加比RF頻段更高的VHF頻段可以實現更低的自偏壓和更高的密度??梢援a生簡單的等離子體??梢灶A期達到什至更低的損傷濺射。


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