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PVD物理氣相沉積的原理,類型和特征
編輯 :

佳達

時間 : 2020-04-05 08:30 瀏覽量 : 22

 物理氣相沉積的原理,類型和特征

 1)真空蒸著

 真空蒸發是使塑料具有金屬光澤的方法之一。由于可以在真空中降低金屬等的汽化溫度,因此金屬在真空中被加熱和蒸發以在塑料表面上沉淀。

 真空沉積的過程是在塑料上涂覆底涂層(底涂層),干燥,附著沉積的金屬膜,然后涂覆面漆以保護沉積的膜。

 鋁,金,銀,鋅等用作要蒸發的金屬,但鋁蒸發主要用于裝飾。除裝飾目的外,它還用于具有阻氣性和殺菌食品包裝的功能性薄膜。

 2)濺射

 通過在真空裝置中將物體(塑料)放在陽極側并將靶材(涂層材料)進行濺射。該方法將裝在設備中的Ar(氬)氣體電離,使其與目標碰撞,然后將飛出目標的目標分子轉變為薄膜。

 通過濺射法可以進行大多數的金屬鍍敷,其特征在于,可以通過真空蒸鍍難以進行的Cr(鉻)鍍敷,ABS樹脂以外的各種樹脂進行金屬鍍敷。結果,使用領域廣泛,并且濺射產品廣泛用于裝飾目的,例如汽車,照明電器,光學器件和各種工業設備。另一方面,膜沉積速率比其他裝飾方法慢,并且每單位面積的高成本是個問題。

 3)離子鍍

 其原理與真空沉積法的原理相同,不同之處在于在真空裝置中產生放電以產生等離子體,并且蒸發的金屬顆粒經過電離并電吸附到物體(塑料)上。是要拍電影。這使得可以產生比氣相沉積方法具有更強粘附力的膜.市場上流行的薄膜是金色的氮化鈦薄膜,但根據加工條件的不同,其顏色可以從銀到棕色。另外,使用鈦以外的金屬和氮氣以外的氣體的彩色涂料已經投入實際使用。


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