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佳達納米涂層 > 業界資訊 > PVD涂層技術
PVD涂層技術
編輯 :

佳達

時間 : 2020-03-25 16:30 瀏覽量 : 22

 PVD涂層

 PVD涂層是一種通過離子鍍物理氣相沉積)形成各種陶瓷涂層的技術。PVD涂層的加工溫度低至約500℃,氮化物如TiN涂層(氮化鈦),CrN涂層(氮化鉻),TiCN(涂層碳氮化鈦),TiC涂層(碳化鈦)和VC涂層(碳化釩)等涂層可為模具和工具提供耐磨性和耐腐蝕性。

工模具涂層加工

涂層生產原理

 PVD涂層原理

 1)通過電弧放電,空心陰極放電,EB等將涂料溶解在氣體中

 2)涂層材料的氣體和反應性氣體在等離子體中被電離。

 3)通過施加到產品上的偏置電壓(負電壓)來誘導離子。

 4)在產品上感應的離子形成具有投射力和附著力的涂層。

 PVD涂層的特點

 PVD涂層的特征在于其涂層方法取決于加工方法和真空鈦金爐。

 這是一些典型的真空涂層方法。

真空涂層膜系

 電弧法

 1)加工溫度可以在200-500℃的寬范圍內。PVD涂層生產

 2)施加的電壓大并且可以獲得具有優異粘附性的PVD涂膜。

 3)由于可以設置多個電弧蒸發源,因此可以涂覆復合膜和多層膜。

 4)可兼容較大的工件。

 5)大型爐可用于批量生產。

 溶解式

 1)處理溫度為400-500℃,可以獲得高粘合力的PVD膜層。

 2)獲得的涂膜非常致密,并且可以獲得具有高耐腐蝕性的PVD膜層。

 3)涂膜具有優異的光滑度。其特征在于在涂層處理之前和之后表面粗糙度幾乎沒有變化。

 4)可以在相對較短的時間內進行處理,并可用于批量生產。

PVD涂層工藝


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